國內外關于ITO廢靶材的資源化利用和無害化處置技術的相關研究較多，主要可分為濕法、火法以及火濕法聯合三大類。濕法類主要的提取方式為鹽酸浸出，浸出液經氧化法或使用鋁粉、鋅粉等分離銦錫后再置換得到粗銦，該方法的缺點是銦錫分離率低，氧化錫渣等中含銦約1%～2%，銦直收率﹤97%。
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ITO（氧化銦錫）靶材是濺射靶材中陶瓷靶材（化合物靶材）的一種，在顯示靶材中占比將近50%。ITO靶材就是將氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經過一系列的生產工藝加工成型，再高溫氣氛燒結（1600度，通氧氣燒結）形成的黑灰色陶瓷半導體。
2017年6月，工信部發布《重點新材料首批次應用示范指導目錄（2017年版）》，提出了平板顯示用ITO靶材、平板顯示用高純鉬靶材等重點新材料的應用領域。伴隨ITO技術和產能突破瓶頸，國產ITO靶材憑借成本和性價比優勢將逐步占領市場。
