ITO靶材的基本介紹
主要成分：氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）
應用領域：液晶顯示、OLED、太陽能電池、觸摸屏等
靶材類型：新靶材、廢靶材（使用后剩余靶材）
主要回收業務：
銦類：銦錠、銦絲、精銦、銦線、銦粒、銦型材、銦片、銦板、銦帶、銦條、銦排、純銦、工業廢、銦、銦管、氧化銦、電解銦、高純銦、ITO靶材、ITO靶粉、銦錫合金、銦錫氧化物。
銦在半導體、液晶顯示器等電子器件的生產中發揮著重要作用。銦靶材通常用于物相沉積（PVD）工藝中，制造薄膜。然而，銦靶材的成本高昂，且供應有限，因此從廢棄或用過的靶材中回收銦變得至關重要。
提純銦的方法包括蒸餾法、電解法和區域精煉法。蒸餾通過高溫蒸發和冷凝來提純銦。電解利用電流來提純銦。區域精煉則通過移動的熔融區來提純銦。
總之，銦靶材回收是利用銦資源的重要步驟。盡管有多種回收方法，但分離和提純銦仍是關鍵挑戰。應繼續努力提高回收效率和可持續性，以確保銦資源的長期可獲得性。
